Mô tả: PVD (Physical Vapor Deposition) phủ lớp màng mỏng chức năng/trang trí: TiN, CrN, ZrN, DLC… độ cứng cao, màu sắc đa dạng.
Ứng dụng: Khuôn, dao cụ, linh kiện cơ khí chính xác, trang trí cao cấp (đồng hồ, khóa, sen vòi…).
Ưu điểm: Lớp mỏng 0.1–5 µm nhưng cứng & bền; bám tốt; quy trình sạch, ít chất thải.
Thông số kỹ thuật:
Cấu hình cơ bản: Buồng chân không; bơm chân không; nguồn sputter/arc; giá treo quay; hệ khí phản ứng (N₂, Ar, C₂H₂…).
Tùy chọn: Tiền xử lý plasma etching; multi-target (Ti, Cr, Zr…); giám sát độ dày.
Thông số: Chân không 10⁻³–10⁻⁵ mbar; T° nền 150–450°C; độ cứng 20–60 GPa (tùy lớp).
Hạ tầng & An toàn: Điện 3P; làm mát nước; an toàn khí; EHS cho dầu bơm.
Bảo hành: 12 tháng; hỗ trợ recipe theo ứng dụng.